| 西周倗国墓地出土荒帷印痕的科技分析 |
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| 引用本文： | 马颖,杨益民,宋建忠,吉琨璋,王昌燧.西周倗国墓地出土荒帷印痕的科技分析[J].中原文物,2009(1). |
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| 作者姓名： | 马颖 杨益民 宋建忠 吉琨璋 王昌燧 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院研究生院科技史与科技考古系,北京,100049
2. 山西省考古研究所,山西,太原,030001 |
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| 基金项目： | 中国科学院知识创新方向性项目，国家自然科学基金，中国科学院研究生院人才基金 |
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| 摘 要： | 根据文献记载,荒帷是周代贵族墓中用作棺饰的一种丝织品.然而,因难以保存,一直缺少考古发掘的实物证据.2004年在西周倗国墓地发掘时,发现了板结在土层表面的荒帷印痕,为了解古代荒帷提供了重要的材料.我们采用显微观察测量、扫描电镜(SEM-EDS)、X射线衍射(XRD)、拉曼光谱以及淀粉粒刚果红染色法等方法和技术,对荒帷印痕和土样进行了系统的测试和分析.结果表明,荒帷为平纹组织,经纬密度大约为38×24根/平方厘米.所用红色颜料为朱砂(HgS),黄色颜料推测为黄赭石.石染法所使用的胶结物应为淀粉类黏合剂,说明汉代郑玄对<考工记>中"钟氏染羽"的解释确有所指.纺织品残留印痕的科技分析可以获取丰富的潜信息,在今后的研究中应给予足够的重视.
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| 关 键 词： | 荒帷 纺织品印痕 丝织品 纺织工艺 石染法 淀粉粒 黏合剂 |
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