大窑遗址四道沟地层剖面"PS"材料保护加固试验报告 |
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引用本文: | 内蒙古博物馆.大窑遗址四道沟地层剖面"PS"材料保护加固试验报告[J].内蒙古文物考古,2002(1):135-139. |
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作者姓名: | 内蒙古博物馆 |
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作者单位: | 内蒙古博物馆
(汪英华),内蒙古博物馆(葛丽敏) |
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摘 要: | 本次试验是内蒙古文化厅文物处、内蒙古博物馆有关技术人员在大窑四道沟遗址地层剖面首次实质性的保护加固试验研究,是我区土遗址保护的探索性工作。选用的材料是经国家文物局推荐的由甘肃省敦煌研究院研制的“PS”材料,曾用于甘肃、新疆等地国家级遗址的保护,并取得了较好的效果。本次试验对大窑遗址四道沟地层剖面上部马兰黄土地层的保护加固取得了满意的效果.
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关 键 词: | 大窑遗址 四道沟 地层剖面 “PS”材料保护 中国 文物保护 |
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